发信人: daydayup2 (天天向上), 信区: NanoST
标 题: 请问一般光刻胶的最小分辨率是多少？
发信站: BBS 未名空间站 (Tue Jan 20 05:13:48 2009)

在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm,(http://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist)
请问如果需要更小的分辨率得用别的光刻胶吗？
先谢了！

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发信人: smallfox (smallfox), 信区: NanoST
标 题: Re: 请问一般光刻胶的最小分辨率是多少？
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Jan 23 00:24:48 2009)

EBL
【 在 daydayup2 (天天向上) 的大作中提到: 】
: 在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm,(http://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist)
: 请问如果需要更小的分辨率得用别的光刻胶吗？
: 先谢了！



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发信人: toris (toris), 信区: NanoST
标 题: Re: 请问一般光刻胶的最小分辨率是多少？
发信站: BBS 未名空间站 (Sat Jan 24 14:52:43 2009)

光学LITHOGRAPHY的最小分辨率是 光的波长/(2* 介质的折射率).

用小波长的光源是提高分辨率的关键.跟光刻胶关系不太大吧.

EBL的分辨率是很小. 因为电子波的德波若衣波长短. EBL非常费时. PHOTOLITHOGRAPHY
工业界用的多, EBL研究机构用的多.





【 在 daydayup2 (天天向上) 的大作中提到: 】
: 在维基上看到的shipley光刻胶最小分辨率一般是500nm,(http://en.wikipedia.org/wiki/Photoresist)
: 请问如果需要更小的分辨率得用别的光刻胶吗？
: 先谢了！



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